Park NX20 Lite用于晶圓測量和分析的高性價比 AFM 系統(tǒng)
Park NX15 功能強大的原子力顯微鏡提高您的生產(chǎn)力
Park NX20 失效分析的理想選擇
Park NX20 失效分析的理想選擇
Park NX20 300mm 用于300毫米晶圓測量和分析的自動化納米計量工具
概覽
功能強大——助力研究如虎添翼
Park NX15不僅非常適合共享實驗室里的研究人員處理各種樣品、進(jìn)行多變量實驗,也同樣適合故障分析工程師處理晶圓的系統(tǒng)性工作。合理的價格和強大的集成功能使其快速成為業(yè)內(nèi)的明星AFM.
便捷的樣品測量(包含多樣品掃描)
一次可對多個樣品自動成像
設(shè)計的多樣本卡盤,一次至多可裝載9個單獨樣品(可選)
全電動XY樣品臺行程可達(dá) 150 mm x 150 mm
通過消除掃描器串?dāng)_進(jìn)行精 準(zhǔn)的XY掃描
獨立閉環(huán)XY和Z柔性掃描器
正交XY掃描
無需軟件處理即可保留真實可信的樣品表面形貌信息
真正非接觸模式實現(xiàn)探針使用壽命、成像分辨率和樣品的有效保護(hù)
快速的Z伺服速度,實現(xiàn)真正的非接觸模式
針尖磨損微小化,可實現(xiàn)長時間的高質(zhì)量和高分辨率成像
多種模式和選項
全面性的測量模式和表征方法
可實現(xiàn)可選配件和升級擴(kuò)展功能
用于故障分析(FA)的精密電學(xué)測量
技術(shù)信息
便捷的樣品測量(包含多樣品掃描)
Park NX15 多樣品掃描系統(tǒng)
一次可對多個樣品自動成像
多樣品卡盤,一次可裝載9個單獨樣品(可選)
全電動XY樣品臺行程可達(dá) 150 mm x 150 mm
使用電動樣品臺,多樣品掃描可實現(xiàn)多區(qū)域同步成像和掃描自動化。
以下是它的工作原理:
1.用戶可自定義多個掃描位置
2. 去開始掃描位置進(jìn)行成像
3. 抬針
4. 將機動平臺移動到下一個用戶定義的坐標(biāo)
5. 下針
6. 重復(fù)掃描
通過輸入樣品臺坐標(biāo),利用兩個參考點消除樣品偏移,即可精 準(zhǔn)定位多個掃描位置。該自動化功能大大簡化了繁瑣的手動操作流程,提高了工作效率。

無掃描器弓形彎曲的平直正交XY軸掃描
Park的串?dāng)_消除技術(shù)不僅修正了掃描器弓形彎曲的缺點,還能在不同掃描位置、掃描速率和掃描尺寸條件下進(jìn)行平直正交XY軸掃描。即使是平坦的樣品也不會出現(xiàn)如光學(xué)平面、各種偏移掃描等背景曲率。因此Park能不懼艱難挑戰(zhàn),為您在研究中提供高精度的納米測量。
Park的優(yōu)勢在于匠心獨運的掃描器架構(gòu)。基于獨立XY掃描器和Z掃描器設(shè)計的撓曲結(jié)構(gòu),能讓您輕松獲得的較高精度納米級分辨率數(shù)據(jù)。

行業(yè)領(lǐng)跑的低噪聲 Z 探測器
Park AFM 配備了該領(lǐng)域有效的低噪聲Z探測器,噪音水平低于0.02 nm,因而達(dá)到了樣品形貌成像精 準(zhǔn),沒有邊沿過沖無需校準(zhǔn)的高效率。Park NX系列不僅為您提供高精 準(zhǔn)的數(shù)據(jù),更為您大大節(jié)省了時間成本。

利用低噪聲Z探測器信號進(jìn)行形貌成像
Z探測器噪音水平低于0.02 nm
沒有邊沿過沖,無需額外校準(zhǔn)
只需在工廠校準(zhǔn)一次
樣品:1.2 μm 標(biāo)準(zhǔn)臺階高度
(9 μm x 1 μm, 2048 pixels x 128 lines)
Non-Contact? 模式可延長探針壽命、保護(hù)樣品并精 準(zhǔn)測量
True Non-Contact? 模式是Park原子力顯微鏡系統(tǒng)專有的掃描模式。該模式通過在掃描過程中防止針尖和樣品損壞,產(chǎn)生高清的分辨率和準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)。
接觸模式下,針尖在掃描過程中持續(xù)接觸樣品;輕敲模式下,針尖周期性地接觸樣品;而在非接觸模式下針尖不會接觸樣品。因此,使用非接觸模式具有幾大優(yōu)勢。由于針尖銳度得以保持,所以在整個成像過程中會以高分辨率進(jìn)行掃描。非接觸模式下由于針尖不會直接接觸樣品表面,從而避免了損壞軟樣品。
減少針尖磨損 → 長時間高分辨率掃描
無損式探針- 樣品接觸 → 樣品受損微小化
可滿足各種條件下,對各種樣品的非接觸式掃描


此外,非接觸模式可以感知探針與樣品原子之間的作用力,甚至可以檢測到探針接近樣品時產(chǎn)生的橫向力。因此,在非接觸模式下使用探針可以有效避免撞到樣品表面時突然出現(xiàn)的高層結(jié)構(gòu)。而接觸模式和輕敲模式只能進(jìn)行探針底端檢測,很容易受到這種撞擊傷害。

原子力顯微鏡模式
具有擴(kuò)展性的 AFM 解決方案
行業(yè)領(lǐng)跑——支持廣泛的SPM 模式和選項
如今,研究人員需要在不同的測量條件和樣品環(huán)境下表征廣泛的物理特性。 Park Systems能為您提供廣泛的 SPM 模式、多樣的 AFM 選項以及業(yè)界領(lǐng)跑的選項兼容性和可升級性,支持多種樣品表征。

Park NX15 擁有廣泛的SPM模式
形貌成像
非接觸
接觸
輕敲
介電/壓電特性
壓電力顯微鏡 (PFM)
高壓PFM
壓電響應(yīng)光譜
磁學(xué)特性
磁力顯微鏡 (MFM)
電學(xué)特性
導(dǎo)電原子力顯微鏡 (C-AFM)
電流-電壓分光鏡
開爾文探針力顯微鏡 (KPFM)
高壓KPFM
掃描電容顯微鏡 (SCM)
掃描擴(kuò)展電阻顯微鏡 (SSRM)
掃描隧道顯微鏡 (STM)
光電流映射 (PCM)
靜電力顯微鏡 (EFM)
力學(xué)特性
力調(diào)制顯微鏡 (FMM)
納米壓痕
納米刻蝕
高壓納米刻蝕
納米操縱
橫向力顯微鏡(LFM)
力距 (F/d) 光譜
力容積成像
化學(xué)特性
具有功能化探針的化學(xué)力顯微鏡
納米壓痕
電化學(xué)顯微鏡 (EC-AFM)
技術(shù)參數(shù)
Park NX15 技術(shù)參數(shù)
Flexure guided high-force scanner
Scan range: 15 μm (optional 30 μm)
Single module flexure XY-scanner with closed-loop control
Scan range: 100 μm × 100 μm
Motorized Z stage travel range: 25.5mm,
optional precision encoder for better stage repeatability
Motorized XY stage travel range:
150 mm,
optional precision encoders for better XY stage repeatability
Sample size: Up to 150 mm wafer sample
AFM system control and data acquisition software
Auto mode for quick setup and easy imaging
Manual mode for advanced use and finer scan control
AFM data analysis software
Stand-alone design—can install and analyze data away from AFM
Capable of producing 3D renders of acquired data

報價:面議
已咨詢999次大樣品原子力顯微鏡
報價:面議
已咨詢554次Park原子力顯微鏡
報價:面議
已咨詢2593次
報價:面議
已咨詢2238次
報價:面議
已咨詢9058次原子力顯微鏡
報價:面議
已咨詢7145次原子力顯微鏡
報價:面議
已咨詢225次原子力顯微鏡
報價:面議
已咨詢4875次原子力顯微鏡
Park NX-Hivac通過為失效分析工程師提供高真空環(huán)境來提高測量敏感度以及原子力顯微鏡測量的可重復(fù)性。與一般環(huán)境或干燥N2條件相比,高真空測量具有準(zhǔn)確度好、可重復(fù)性好及針尖和樣本損傷低等優(yōu)點。
高精度探針針尖變量的亞埃米級表面粗糙度測量,晶圓的表面粗糙度對于確定半導(dǎo)體器件的性能是至關(guān)重要的,對于先進(jìn)的元件制造商,芯片制造商和晶圓供應(yīng)商都要求對晶圓商超平坦表面進(jìn)行更精確的粗糙度控制。
對于工程師來說,識別介質(zhì)/平面基底的納米級缺陷的任務(wù)是一個非常耗時的過程,Park NX-HDM原子力顯微鏡系統(tǒng)可以自動缺陷識別,通過與各種光學(xué)儀器的聯(lián)用可以提高缺陷檢測效率。
Park Systems推出NX-3DM全自動原子力顯微鏡系統(tǒng),專為垂懸輪廓、高分辨率側(cè)壁成像和臨界角的測量而設(shè)計。
CSI是一家法國科學(xué)設(shè)備制造商,擁有專業(yè)的AFM設(shè)計概念,以及為現(xiàn)有的AFM提供設(shè)計選項。它避免了激光對準(zhǔn)需要預(yù)先定位針尖的系統(tǒng),針尖/樣品的頂部和側(cè)視圖,結(jié)合垂直的馬達(dá)控制系統(tǒng),使預(yù)先趨近更加容易。
EM-AFM可在SEM中同時提供原子力顯微鏡成像和納米機械測量。它綜合了這兩種技術(shù)的優(yōu)點,可高速獲得高分辨率的三維圖像,并且在微納米和亞納米尺度上實時觀察納米級力的相互作用,與常規(guī)SEM/FIB兼容,