全自動顯微鏡 NX-HDM 全自動缺陷檢測原子力顯微鏡
電鏡原位原子力 EM-AFM 電鏡原位原子力顯微鏡
電學(xué)原子力 Nano observer 電學(xué)原子力顯微鏡
可旋轉(zhuǎn)顯微鏡 NX-3DM 可旋轉(zhuǎn)全自動原子力顯微鏡
全自動顯微鏡 NX-HDM 全自動缺陷檢測原子力顯微鏡
原子力顯微鏡 NX-Wafer 全自動晶圓檢測原子力顯微鏡
對于工程師來說，識別介質(zhì)/平面基底的納米級缺陷的任務(wù)是一個非常耗時的過程，Park NX-HDM原子力顯微鏡系統(tǒng)可以自動缺陷識別，通過與各種光學(xué)儀器的聯(lián)用可以提高缺陷檢測效率，越來越多的行業(yè)需要超平的介質(zhì)和基板來滿足不斷縮小的設(shè)備需求，Park NX-HDM原子力顯微鏡系統(tǒng)具有業(yè)界低0.5埃噪音，并將與其真正的非接觸式模式相結(jié)合實現(xiàn)亞埃級表面粗糙度的測試。
基本技術(shù)參數(shù)
200 mm電動XY平臺 | 電動Z平臺 | 噪音 |
行程可達(dá)150mm x 150mm, 2 μm重現(xiàn)性 0.095nm分辨率 | 25 mm Z行程距離 0.1μm 分辨率 小于1μm 重現(xiàn)性 | 小于 0.5 μm/s |
尺寸&重量 | 控制箱 | 設(shè)備需求環(huán)境 |
880（w）x 880（d）x 880（h） 620kg | 600（w）x 900（d）x 1330（h） 170kg | 室溫10 ℃~40 ℃ 操作18 ℃~24 ℃ 濕度 30%~60% |
主要功能
1) 快速自動缺陷檢測功能
2) 亞埃級表面粗糙度的測量
3) 有小的熱漂移，自動分析測量的數(shù)據(jù)
4) 在線監(jiān)測測試過程，
應(yīng)用
自動檢測缺陷
相關(guān)文獻(xiàn)
Foucher; R Therese; Y. Lee; S.-I. Park; S-J. Proc. SPIE 8681,Metrology, Inspection, and Process Control for MicrolithographyXXVII, 868106 (April 18, 2013); doi:10.1117/12.2011463
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Park NX-Hivac通過為失效分析工程師提供高真空環(huán)境來提高測量敏感度以及原子力顯微鏡測量的可重復(fù)性。與一般環(huán)境或干燥N2條件相比，高真空測量具有準(zhǔn)確度好、可重復(fù)性好及針尖和樣本損傷低等優(yōu)點。
高精度探針針尖變量的亞埃米級表面粗糙度測量，晶圓的表面粗糙度對于確定半導(dǎo)體器件的性能是至關(guān)重要的，對于先進(jìn)的元件制造商，芯片制造商和晶圓供應(yīng)商都要求對晶圓商超平坦表面進(jìn)行更精確的粗糙度控制。
對于工程師來說，識別介質(zhì)/平面基底的納米級缺陷的任務(wù)是一個非常耗時的過程，Park NX-HDM原子力顯微鏡系統(tǒng)可以自動缺陷識別，通過與各種光學(xué)儀器的聯(lián)用可以提高缺陷檢測效率。
Park Systems推出NX-3DM全自動原子力顯微鏡系統(tǒng)，專為垂懸輪廓、高分辨率側(cè)壁成像和臨界角的測量而設(shè)計。
CSI是一家法國科學(xué)設(shè)備制造商，擁有專業(yè)的AFM設(shè)計概念，以及為現(xiàn)有的AFM提供設(shè)計選項。它避免了激光對準(zhǔn)需要預(yù)先定位針尖的系統(tǒng)，針尖/樣品的頂部和側(cè)視圖，結(jié)合垂直的馬達(dá)控制系統(tǒng)，使預(yù)先趨近更加容易。
EM-AFM可在SEM中同時提供原子力顯微鏡成像和納米機(jī)械測量。它綜合了這兩種技術(shù)的優(yōu)點，可高速獲得高分辨率的三維圖像，并且在微納米和亞納米尺度上實時觀察納米級力的相互作用，與常規(guī)SEM/FIB兼容，
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