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岱美儀器技術服務（上海）有限公司
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- 品牌：EVG
- 型號：IQ Aligner
- 產地：歐洲 奧地利
IQ Aligner 自動掩模對準系統(tǒng) 用于自動非接觸近距離掩模對準光刻，進行了處理和優(yōu)化，用于晶圓片的尺寸高達200毫米。
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EVG6200 NT掩模對準光刻系統(tǒng)價格：面議- 品牌：EVG
- 型號：EVG6200 NT
- 產地：歐洲 奧地利
特色：EVG 6200 NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米。
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- 品牌：EVG
- 型號：IQ Aligner NT
- 產地：歐洲 奧地利
新型IQ Aligner NT具有高強度和高均勻度的曝光光學器件，新的晶圓處理硬件，可實現全局多點對準的200mm和300mm晶圓全覆蓋范圍以及優(yōu)化的工具軟件，從而使生產率提高了2倍與EVG上一代IQ...
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EVG單面/雙面掩模對準光刻機EVG610價格：￥1500000- 品牌：EVG
- 型號：EVG610
- 產地：歐洲 奧地利
EVG610支持各種標準光刻工藝，如真空，硬，軟接觸和接近式曝光模式，可選擇背部對準方式。此外，該系統(tǒng)還提供其他功能，包括鍵合對準和納米壓印光刻（NIL）。
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