Nanoscribe Quantum X align對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻系統(tǒng)
Nanoscribe Quantum X align對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻系統(tǒng)
Nanoscribe超高速雙光子灰度光刻技術(shù)微納3D打印設(shè)備
Nanoscribe超高速雙光子灰度光刻技術(shù)微納3D打印設(shè)備
Nanoscribe 突破二維局限實(shí)現(xiàn)三維微流道結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
Nanoscribe 3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域
全新Quantum X align對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻（A2PL?)系統(tǒng)通過新添加的高精度對(duì)準(zhǔn)功能實(shí)現(xiàn)了對(duì)高精度結(jié)構(gòu)的放置，增強(qiáng)了Nanoscribe已受大眾認(rèn)可的三維微納加工技術(shù)。這款具備納米級(jí)精度對(duì)準(zhǔn)3D打印功能的最高分辨率打印設(shè)備利用A2PL技術(shù)，自由曲面微光學(xué)原件可以以亞微米精度對(duì)齊打印到光纖或光子芯片光軸上?？蓱?yīng)用于生產(chǎn)用于光子集成和封裝或小型化成像光學(xué)器件的高效光學(xué)互連，例如用于微創(chuàng)內(nèi)窺鏡檢查等。
通過對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)（A2PL）實(shí)現(xiàn)高性能3D微納加工
在光纖上進(jìn)行3D打印: 基于纖芯檢測(cè)功能實(shí)現(xiàn)在光纖表面精確對(duì)準(zhǔn)打印
在芯片上進(jìn)行3D打印: 基于3D基底拓?fù)錁?gòu)圖在芯片表面或刻面上精確對(duì)準(zhǔn)打印
3D對(duì)準(zhǔn)技術(shù)：自動(dòng)檢測(cè)和三個(gè)旋轉(zhuǎn)軸上襯底傾斜補(bǔ)償
高速微納加工智能切片
基于雙光子聚合（2PP）的高精度3D打印
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已咨詢10465次Quantum X align
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已咨詢5471次Quantum X shape
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已咨詢5411次QuantumX平臺(tái)
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已咨詢12012次QuantumX平臺(tái)
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已咨詢3309次樣品制備
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已咨詢450次UV-NIL/SmartNIL紫外壓印
步進(jìn)式光刻 更高的精度 激光主動(dòng)對(duì)焦 6 英寸加工幅面 特征尺寸0.4 μm
本設(shè)備是我公司專門針對(duì)各大、專院校及科研單位研發(fā)使用的一種精密光刻機(jī)，主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。
采用AOD激光操控技術(shù)，光斑定位精度優(yōu)于1nm，高精度套刻對(duì)準(zhǔn)，結(jié)構(gòu)邊緣超平滑，可輕松構(gòu)建1微米以下線寬結(jié)構(gòu)。 先進(jìn)的AOD激光操控技術(shù)，使得DaLI具有超高的激光定位精度（優(yōu)于1nm），超長(zhǎng)的有效壽命，以及極高的穩(wěn)定性。DaLI主要適用于廣泛應(yīng)用于MEMS、材料科學(xué)、微流控、微光學(xué)器件及其它微納加工領(lǐng)域。
主要優(yōu)勢(shì) ? 小巧桌上型系統(tǒng) ? 掩膜板制作及激光直寫 ? 375nm 或405nm 激光源 ? 兼容所有光刻膠 ? 高深寬比: 1 x 20
創(chuàng)新采用三柔性支點(diǎn)實(shí)現(xiàn)高精度自動(dòng)調(diào)平；真空接觸自動(dòng)曝光；樣片升降、調(diào)平、接觸、曝光、復(fù)位實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化控制；采用積木錯(cuò)位蠅眼透鏡實(shí)現(xiàn)高均勻照明；可連續(xù)設(shè)定分離間隙；采用雙目雙視場(chǎng)顯微鏡實(shí)現(xiàn)高對(duì)準(zhǔn)精度。整機(jī)具有性能可靠、操作方便、自動(dòng)化程度高等特點(diǎn)。
nanoscribe
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