Nanoscribe Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)
Nanoscribe 多級衍射光學元件
Nanoscribe 創(chuàng)新折射微納光學
Nanoscribe 微機械和MEMS
Nanoscribe 具備3D設(shè)計自由度的高級微納光學
產(chǎn)品介紹:
3D微納加工技術(shù)應用于集成光子學領(lǐng)域
雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計自由度,可以在各種預先構(gòu)圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設(shè)計需要精確地集成復雜的微納結(jié)構(gòu)。
預構(gòu)圖復雜光學結(jié)構(gòu)的微納加工應用
光學和光電組件的小型化對于實現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應用至關(guān)重要。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設(shè)計會有分辨率不足和光學質(zhì)量表面不達標的缺陷,但是利用雙光子聚合原理則可以完 美解決這些問題。該技術(shù)不僅可以用于在平面基板上打印微納米部件,還可以直接在預先設(shè)計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結(jié)構(gòu),包括光子集成電路,光纖尖 端和預制晶片等。這種方法可以在各種材料(例如InP,SOI和Si3N4)上進行高精度的原位3D微納加工,從而實現(xiàn)光學接口的小型化和無組裝制造。
例如,可以應用于將自由曲面微納光學組件直接打印到芯片上,從而連接多根光纖到一個芯片上。為了達到這個目的,必須將光收集起來,平行于芯片表面重新定向然后傳輸?shù)秸▽е?。而Nanoscribe公司基于雙光子聚合原理的無掩模光刻系統(tǒng)擁有高設(shè)計自由度的特點,可以夠輕松實現(xiàn)收集光束并傳輸?shù)讲▽е小O到y(tǒng)配備的高分辨率處理鏡頭和打印系統(tǒng)的編程接口可以實現(xiàn)耦合結(jié)構(gòu)與波導的自動對準,且對準精度可達到100 nm。
Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)可適用于科研和工業(yè)領(lǐng)域應用。我們的客戶成功將微納光學結(jié)構(gòu)直接打印到光子組件上從而實現(xiàn)從邊緣到表面的全面耦合。而全新的雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X則可以應用于光子封裝技術(shù)。更多應用相關(guān)科研項目請點擊MiLiQuant 和 HandheldOCT.
3D微納加工創(chuàng)新科技



集成光子學領(lǐng)域應用
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步進式光刻 更高的精度 激光主動對焦 6 英寸加工幅面 特征尺寸0.4 μm
本設(shè)備是我公司專門針對各大、專院校及科研單位研發(fā)使用的一種精密光刻機,主要用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。
采用AOD激光操控技術(shù),光斑定位精度優(yōu)于1nm,高精度套刻對準,結(jié)構(gòu)邊緣超平滑,可輕松構(gòu)建1微米以下線寬結(jié)構(gòu)。 先進的AOD激光操控技術(shù),使得DaLI具有超高的激光定位精度(優(yōu)于1nm),超長的有效壽命,以及極高的穩(wěn)定性。DaLI主要適用于廣泛應用于MEMS、材料科學、微流控、微光學器件及其它微納加工領(lǐng)域。
主要優(yōu)勢 ? 小巧桌上型系統(tǒng) ? 掩膜板制作及激光直寫 ? 375nm 或405nm 激光源 ? 兼容所有光刻膠 ? 高深寬比: 1 x 20
創(chuàng)新采用三柔性支點實現(xiàn)高精度自動調(diào)平;真空接觸自動曝光;樣片升降、調(diào)平、接觸、曝光、復位實現(xiàn)自動化控制;采用積木錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)高均勻照明;可連續(xù)設(shè)定分離間隙;采用雙目雙視場顯微鏡實現(xiàn)高對準精度。整機具有性能可靠、操作方便、自動化程度高等特點。