前言

半導(dǎo)體行業(yè)是現(xiàn)代科技與經(jīng)濟發(fā)展的跳板，支撐著各項關(guān)鍵領(lǐng)域的核心技術(shù)創(chuàng)新與產(chǎn)業(yè)升級。目前，該行業(yè)也正經(jīng)歷著三重變革驅(qū)動：先進制程持續(xù)突破，從 28 納米向 2 納米推進，不斷逼近物理極限；新能源汽車產(chǎn)業(yè)崛起，推動碳化硅、氮化鎵等第三代功率半導(dǎo)體快速發(fā)展；以 DeepSeek 為代表的 AI 浪潮帶來的算力與功耗全新挑戰(zhàn)。這三股力量共同重塑技術(shù)路線圖，推動產(chǎn)業(yè)鏈深度協(xié)作與創(chuàng)新，開啟半導(dǎo)體發(fā)展新紀(jì)元。隨著先進材料成為半導(dǎo)體演進的基石，檢測分析開啟轉(zhuǎn)型道路——從“合規(guī)檢驗”邁向“深度溯源”。行業(yè)不再僅滿足于材料達標(biāo)確認，更追求在工藝波動時快速精準(zhǔn)定位材料端根因，以提升良率與穩(wěn)定性。

第一部分

金屬雜質(zhì)--零部件檢測

半導(dǎo)體零部件檢測的核心目的在于確保其材料純度、結(jié)構(gòu)完整與功能可靠。通過精準(zhǔn)識別金屬雜質(zhì)、有機物和相關(guān)顆粒物的析出，可從源頭管控污染，保障設(shè)備的潔凈度，直接提升最終產(chǎn)品的可靠性、性能與壽命。使用 ICPMS 可準(zhǔn)確測定元素的析出種類、濃度和顆粒物粒徑分布。

第二部分

光刻膠

針對包含多種有機成分的復(fù)雜半導(dǎo)體化學(xué)品，配方分析、雜質(zhì)鑒定、失效分析與問題溯源至關(guān)重要；而成功的分析源于制定清晰的策略。應(yīng)用安捷倫戰(zhàn)略性分析決策樹進行分析，可高效解析復(fù)雜 PAG 結(jié)構(gòu)與多元嵌段共聚樹脂單體，揭示配方核心特征。

第三部分

光學(xué)檢測

?碳化硅晶圓具有高折射率、視場角寬、熱導(dǎo)率高和耐高壓的優(yōu)勢特性，是 VR/AR 等實現(xiàn)輕薄化、高性能顯示的關(guān)鍵材料。安捷倫高端紫外分光光度計（Cary 7000）可精確測量碳化硅晶圓的透過率、反射率、吸收率、霧度、色度等參數(shù)，并能高水平、快速地分析鏡片、波導(dǎo)元件的光學(xué)性能與均勻性，為提升成像質(zhì)量和生產(chǎn)效率提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)支持。

結(jié)語

安捷倫作為半導(dǎo)體行業(yè)創(chuàng)新先行者，不止率先推出高端定制 ICP-MS 解決方案，并通過與產(chǎn)業(yè)伙伴建立深度合作，構(gòu)建了覆蓋材料—工藝—良率的完整檢測閉環(huán)，為半導(dǎo)體制造提供全方位質(zhì)量保障。同時，公司以 ICP-MS 為先導(dǎo)、色譜質(zhì)譜及光學(xué)檢測平臺為核心，助力客戶實現(xiàn)了從合規(guī)檢驗到深度分析的重要跨越。

本文聚焦金屬雜質(zhì)、光刻膠分析與光學(xué)檢測三大最新應(yīng)用和分析場景，詳細展示了可直接應(yīng)用于產(chǎn)品與實驗室的綜合解決方案，為促進半導(dǎo)體行業(yè)未來發(fā)展提供有力支持。

標(biāo)簽：安捷倫