通常情況下，蝕刻液由硫酸和過氧化氫配制而成由于是與其他化學(xué)物質(zhì)一起使用的，任何金屬雜質(zhì)的引入都將會(huì)對(duì)IC器件的可靠性產(chǎn)生不利影響，因此需要使用的硫酸具有高純度和高質(zhì)量由于具有快速測(cè)定各種工藝化學(xué)品中超痕量濃度待測(cè)元素的能力，電感耦合等離子體質(zhì)譜儀已成為了質(zhì)量控制不可缺少的分析工具然而，在傳統(tǒng)的等離子體條件下，往往存在氬離子與基質(zhì)成分結(jié)合產(chǎn)生多原子干擾的情況動(dòng)態(tài)反應(yīng)池使用四級(jí)桿質(zhì)量過濾器建立動(dòng)態(tài)帶通，是消除目標(biāo)元素干擾物的一種強(qiáng)有力的校正技術(shù)使用非反應(yīng)氣體的碰撞池技術(shù)也被證明是一種減少特定多原子干擾的簡單可行的方法本應(yīng)用報(bào)告證明了NexION 300 ICP-MS去除干擾，從而在使用高溫等離子體的條件下通過一次分析就能夠?qū)2SO4中全部痕量水平的雜質(zhì)元素進(jìn)行測(cè)定的能力 PerkinElmer 等離子質(zhì)譜儀