日立高分辨冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡 SU9000
高分辨熱場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡 SU3900/SU3800 SE Series
日立冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU8600
日立肖特基場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU8700
日本日立 熱場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU7000
日立高分辨冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡 SU9000
SU9000是上高二次電子分辨率（0.4nm@30kV）和STEM分辨率（0.34nm@30kV）的掃描電鏡。它采取了特的真空系統(tǒng)和電子光學(xué)系統(tǒng)，不僅分辨率性能優(yōu)異，而且作為冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡甚至不需要傳統(tǒng)意義上的Flashing操作，可以快速穩(wěn)定的進(jìn)行超高分辨成像。
?主要特點(diǎn)：
1. 新型電子光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)達(dá)到掃描電鏡Z高分辨率：二次電子0.4nm（30KV），STEM 0.34nm（30KV）。
2. 用改良的高真空性能和無(wú)與倫比的電子束穩(wěn)定性來(lái)實(shí)現(xiàn)高效率截面觀察。
3. 采用全新設(shè)計(jì)的Super E x B能量過(guò)濾技術(shù)，高效，靈活地收集SE / BSE/ STEM信號(hào)。
應(yīng)用領(lǐng)域：
1. 半導(dǎo)體器件
2. 高分子材料
3. 納米材料
4. 生命科學(xué)
上傳人：天美儀拓實(shí)驗(yàn)室設(shè)備（上海）有限公司
大?。? B
1260
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S-4800型高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡（簡(jiǎn)稱S-4800）為日本日立公司于2002年推出的產(chǎn)品。該電鏡的電子發(fā)射源為冷場(chǎng)，物鏡為半浸沒(méi)式。在高加速電壓（15kV）下，S-4800的二次電子圖像分辨率為1 nm，這是目前半浸沒(méi)式冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡所能達(dá)到的最高水平。該電鏡在低加速電壓（1kV）下的二次電子圖像分辨率為2nm，這有利于觀察絕緣或?qū)щ娦圆畹臉悠?。S-4800的主要附件為X射線能譜儀。
二手 日立 SEM+EDX 冷場(chǎng)電鏡SU8000系列高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡，其中SU8020不光1kv的分辨率提升到1.3nm，并且在探測(cè)器設(shè)計(jì)上有新的突破，配置了Lower、Up-per和Top三個(gè)Everhart-Thornley型探測(cè)器，可以接受SE、LA-BSE和HA-BSE多種信號(hào)，實(shí)現(xiàn)微區(qū)的形貌襯度、原子序數(shù)襯度、結(jié)晶襯度和電位襯度的觀測(cè)；結(jié)合選配的STEM探測(cè)器。
日立SU-8010是日立高新技術(shù)的SEM的全新品牌，新品牌 "REGULUS系列" 電子光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行了最優(yōu)化處理，使得著陸電壓在1KV時(shí)分辨率較前代機(jī)型提高了約20％。另外，最適合低加速電壓下高分辨觀察的冷場(chǎng)電子槍可將樣品的細(xì)節(jié)放大，并獲得高質(zhì)量的圖片。最大放大倍率也由之前的100萬(wàn)倍提高到了800萬(wàn)倍。除此之外，為了能更好的應(yīng)對(duì)不同樣品的測(cè)試和保持并發(fā)揮出高性能，還對(duì)用戶輔助工能進(jìn)行了強(qiáng)化。
日本電子掃描電鏡JSM-IT300型是一款高性能，多功能，多用途的鎢燈絲掃描電鏡。顛覆性的前衛(wèi)性外觀設(shè)計(jì)還特別吸引眼球。操作改為觸摸屏控制，簡(jiǎn)單化，從此操作電鏡非常只能化。
掃描電子顯微鏡主要用于觀察物體的表面形貌像，除此意外，如果配備能譜分析系統(tǒng)，在進(jìn)行獲得樣品表面像的時(shí)候，還可以對(duì)樣品的某個(gè)定點(diǎn)位置進(jìn)行元素的半定量分析。根據(jù)EDS分析出的元素比例，進(jìn)行擬合處理，可以大概的判斷出樣品是什么類型的樣品。
德國(guó)Zeiss 場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡SIGMA 300 ，ZLGemini鏡筒，超高的束流穩(wěn)定性，超高的束流穩(wěn)定性，zhuo越的低電壓性能，In Lens 探測(cè)器，磁性材料高分辨觀察，ding級(jí)X射線分析設(shè)計(jì)，便越操作系統(tǒng)設(shè)計(jì)，超大空間，多接口，升級(jí)靈活。
德Zeiss 電子束直寫儀 Sigma SEM，利用曝光抗蝕劑，采用電子束直接曝光，可在各種襯底材料表面直寫各種圖形，圖形結(jié)構(gòu)（Z小線寬為10nm），是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應(yīng)用于納米器件，光子晶體，低維半導(dǎo)體等前沿領(lǐng)域。
德國(guó)Zeiss 場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡SIGMA 300，專利Gemini鏡筒，超高的束流穩(wěn)定性，卓越的低電壓性能，In Lens 探測(cè)器，磁性材料高分辨觀察，頂級(jí)X射線分析設(shè)計(jì)，便越操作系統(tǒng)設(shè)計(jì)，超大空間，多接口，升級(jí)靈活。
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