二手 OGP ZIP Adavance 250 全自動(dòng)影像測量儀
二手 日立 S-5500 冷場發(fā)射掃描電子顯微鏡 SEM
二手 日本電子 IB-09010CP 截面拋光儀
二手 日本電子 JCM-6000plus NeoScope 臺(tái)式掃描電子顯微鏡 SEM
二手 日本電子 JEM-2100Plus 透射電子顯微鏡 TEM 2018年
Hitachi S—3400N型掃描電子顯微鏡
采用TMP分子泵真空系統(tǒng),節(jié)省占地面積和電源功耗。
主要用于對(duì)材料的微觀形貌、組織和成分進(jìn)行有效分析。
掃描電子顯微鏡
新研制的電子光學(xué)系統(tǒng)和自動(dòng)化功能顯示系統(tǒng)有全屏顯示,無閃爍,高像素和實(shí)時(shí)圖像顯示等優(yōu)異的性能,它還可以實(shí)時(shí)信號(hào)混合并同時(shí)顯示兩個(gè)不同的檢測器觀測到的互不相同的樣品信息。
通過高畫質(zhì)提升掃描電鏡的分析能力和操作性,高靈敏度半導(dǎo)體背散射電子檢測器可以在快速掃描模式下運(yùn)行,這使得尋找大尺寸樣品中感興趣的區(qū)域更為簡單和便利。
1)分辨率二次電子探頭:≤3.0 nm(在30kV,高真空模式),≤10 nm(在3 kV,高真空模式);
被散射探頭:≤4.0 nm(在30kV,低真空模式)。
2)加速電壓:0.3kV~30kV連續(xù)可調(diào)。
3)放大倍數(shù):zui低倍率5倍,zui高倍率300,000倍。
4)真空系統(tǒng)① 具有低真空功能,高低真空切換,不需要安裝壓差光闌;② 真空度:高真空不低于0.1 mPa;低真空(壓力范圍):10 Pa—270 Pa;
5)電子光學(xué)系統(tǒng)① 電子槍:鎢燈絲,具有自動(dòng)偏壓+4級(jí)偏壓功能;② 聚光鏡光闌完全安裝在長內(nèi)襯管內(nèi),可自行更換聚光鏡光闌。
6)樣品室和樣品臺(tái)① 樣品臺(tái)尺寸:裝載直徑≥200 mm樣品;② 樣品臺(tái)(五軸樣品臺(tái),2軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng)功能);③ 行程:X=100 mm;Y=50 mm;Z=50 mm;R=3600;T=-20~+900;
7)探測器及成像系統(tǒng)① 二次電子探測器:二次電子像;高靈敏5分割背散射電子探測器:成分像、形貌像和三維像;②成像模式:同時(shí)得到二次電子像,背散射電子像,兩種圖像混合像;

報(bào)價(jià):¥500000
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報(bào)價(jià):¥8000000
已咨詢454次SEM 掃描電子顯微鏡
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報(bào)價(jià):¥1000000
已咨詢388次SEM 掃描電子顯微鏡
S-4800型高分辨場發(fā)射掃描電鏡(簡稱S-4800)為日本日立公司于2002年推出的產(chǎn)品。該電鏡的電子發(fā)射源為冷場,物鏡為半浸沒式。在高加速電壓(15kV)下,S-4800的二次電子圖像分辨率為1 nm,這是目前半浸沒式冷場發(fā)射掃描電鏡所能達(dá)到的最高水平。該電鏡在低加速電壓(1kV)下的二次電子圖像分辨率為2nm,這有利于觀察絕緣或?qū)щ娦圆畹臉悠?。S-4800的主要附件為X射線能譜儀。
二手 日立 SEM+EDX 冷場電鏡SU8000系列高分辨場發(fā)射掃描電鏡,其中SU8020不光1kv的分辨率提升到1.3nm,并且在探測器設(shè)計(jì)上有新的突破,配置了Lower、Up-per和Top三個(gè)Everhart-Thornley型探測器,可以接受SE、LA-BSE和HA-BSE多種信號(hào),實(shí)現(xiàn)微區(qū)的形貌襯度、原子序數(shù)襯度、結(jié)晶襯度和電位襯度的觀測;結(jié)合選配的STEM探測器。
日立SU-8010是日立高新技術(shù)的SEM的全新品牌,新品牌 "REGULUS系列" 電子光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行了最優(yōu)化處理,使得著陸電壓在1KV時(shí)分辨率較前代機(jī)型提高了約20%。另外,最適合低加速電壓下高分辨觀察的冷場電子槍可將樣品的細(xì)節(jié)放大,并獲得高質(zhì)量的圖片。最大放大倍率也由之前的100萬倍提高到了800萬倍。除此之外,為了能更好的應(yīng)對(duì)不同樣品的測試和保持并發(fā)揮出高性能,還對(duì)用戶輔助工能進(jìn)行了強(qiáng)化。
日本電子掃描電鏡JSM-IT300型是一款高性能,多功能,多用途的鎢燈絲掃描電鏡。顛覆性的前衛(wèi)性外觀設(shè)計(jì)還特別吸引眼球。操作改為觸摸屏控制,簡單化,從此操作電鏡非常只能化。
掃描電子顯微鏡主要用于觀察物體的表面形貌像,除此意外,如果配備能譜分析系統(tǒng),在進(jìn)行獲得樣品表面像的時(shí)候,還可以對(duì)樣品的某個(gè)定點(diǎn)位置進(jìn)行元素的半定量分析。根據(jù)EDS分析出的元素比例,進(jìn)行擬合處理,可以大概的判斷出樣品是什么類型的樣品。
德國Zeiss 場發(fā)射電子顯微鏡SIGMA 300 ,ZLGemini鏡筒,超高的束流穩(wěn)定性,超高的束流穩(wěn)定性,zhuo越的低電壓性能,In Lens 探測器,磁性材料高分辨觀察,ding級(jí)X射線分析設(shè)計(jì),便越操作系統(tǒng)設(shè)計(jì),超大空間,多接口,升級(jí)靈活。
德Zeiss 電子束直寫儀 Sigma SEM,利用曝光抗蝕劑,采用電子束直接曝光,可在各種襯底材料表面直寫各種圖形,圖形結(jié)構(gòu)(Z小線寬為10nm),是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應(yīng)用于納米器件,光子晶體,低維半導(dǎo)體等前沿領(lǐng)域。
德國Zeiss 場發(fā)射電子顯微鏡SIGMA 300,專利Gemini鏡筒,超高的束流穩(wěn)定性,卓越的低電壓性能,In Lens 探測器,磁性材料高分辨觀察,頂級(jí)X射線分析設(shè)計(jì),便越操作系統(tǒng)設(shè)計(jì),超大空間,多接口,升級(jí)靈活。