HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 OLED 鍍膜機(jī)
OLED 鍍膜機(jī)主要面向有機(jī)半導(dǎo)體照明客戶, 需要鍍膜機(jī)性能更穩(wěn)定, 器件效率更高, 性?xún)r(jià)比高,

HVA 高真空閘閥應(yīng)用
一般科研用鍍膜機(jī)的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達(dá)到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時(shí)需要配置分子泵系統(tǒng)或低溫泵系統(tǒng)來(lái)實(shí)現(xiàn)高真空度的需求, 所以對(duì)于生產(chǎn) OLED 鍍膜機(jī)的客戶, 為了節(jié)省抽空時(shí)間和防止基片的污染, 會(huì)選擇在 LOADLOCK 與主腔間進(jìn)行快速傳樣, 由于兩腔室工作的真空度要求不同, 會(huì)在腔室之間增加高真空閥門(mén)來(lái)隔離系統(tǒng).

有時(shí)科研設(shè)備并不配置 LOADLOCK, 但出于泵組快速抽空或方便檢修要求, 還是會(huì)根據(jù)分子泵的進(jìn)氣口徑來(lái)配置高真空閥門(mén)隔離系統(tǒng). 上海伯東美國(guó) HVA 真空閥門(mén)已廣泛應(yīng)用于 OLED 鍍膜機(jī)

上圖是某 OLED 鍍膜機(jī)廠家配置上海伯東美國(guó) HVA 高真空閘閥, 我司根據(jù)鍍膜系統(tǒng)的自動(dòng)化要求, 配置 HVA 11000 系列尺寸以 4”, 6”, 8”閥門(mén)口徑為主的標(biāo)準(zhǔn)不銹鋼氣動(dòng)高真空閘閥,
 

上海伯東美國(guó) HVA 高真空閘閥 11000 系列產(chǎn)品

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