OAI UV Led 光源
OAI UV Led 光源
OAI 紫外光刻機(jī) Model 200 型
OAI Model 212 型紫外光刻機(jī)
OAI Model 800E 紫外光刻機(jī)
美國(guó) OAI 光刻機(jī):
Model 200 手動(dòng)曝光機(jī),實(shí)驗(yàn)室用 ,
Model 800MBA 雙面曝光機(jī), 實(shí)驗(yàn)室及小批量生產(chǎn),
Model 2000 全自動(dòng)邊緣曝光系統(tǒng),生產(chǎn)型
Model 5000 全自動(dòng)曝光機(jī),生產(chǎn)型
OAI 200型光刻機(jī)是一種具有成本效益的高性能掩模對(duì)準(zhǔn)器,采用經(jīng)過(guò)行業(yè)驗(yàn)證的組件,使OAI成為光刻設(shè)備行業(yè)的領(lǐng) 導(dǎo)者。 200型是臺(tái)式面罩對(duì)準(zhǔn)器,需要最小的潔凈室空間。它為研發(fā),或有限規(guī)模,試點(diǎn)生產(chǎn)提供了經(jīng)濟(jì)的替代方案。利用創(chuàng)新的空氣軸承/真空吸盤調(diào)平系統(tǒng),襯底快速平穩(wěn)地平整,用于平行光掩模對(duì)準(zhǔn)和在接觸曝光期間在晶片上的均勻接觸。該系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)一微米分辨率和對(duì)準(zhǔn)精度。
對(duì)準(zhǔn)模塊具有掩模插入件組和快速更換晶片卡盤,其便于使用各種襯底和掩模,而不需要用于重新配置的特殊工具。對(duì)準(zhǔn)模塊包括X,Y和Z軸的微米。
200型掩模對(duì)準(zhǔn)器具有可靠的OAI紫外光源,其在近紫外或深紫外中提供準(zhǔn)直的紫外光,使用功率從200至2000瓦的燈。雙傳感器,光學(xué)反饋回路連接到恒定強(qiáng)度控制器,以提供在所需強(qiáng)度的±2%內(nèi)的曝光強(qiáng)度的控制??梢钥焖俸腿菀椎馗淖僓V波長(zhǎng)。該掩模Aligner是一種靈活,經(jīng)濟(jì)的解決方案,適用于任何入門級(jí)掩模對(duì)準(zhǔn)和UV紫外光照射應(yīng)用.
OAI在MEMS和微流體裝置方面的產(chǎn)品主要包括 :
光刻機(jī)
光源
以工作穩(wěn)定,出光效率高,高均勻性和散射角小而著稱。且可提供 20” 以上的大面積光源。

光功率計(jì)及分析儀
OAI光功率計(jì)以其測(cè)量精度,重復(fù)性著稱。測(cè)量數(shù)據(jù)符合美國(guó)NIST標(biāo)準(zhǔn)。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻能量測(cè)量及控制。

報(bào)價(jià):面議
已咨詢1587次美國(guó) OAI
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已咨詢260次光功率計(jì)儀/曝光機(jī)
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IXION 193 SLM 是一款單頻全固態(tài)激光系統(tǒng),適用于光學(xué)計(jì)量、193 nm 步進(jìn)光學(xué)元件校準(zhǔn)或高功率 ArF 準(zhǔn)分子激光器的帶寬控制等應(yīng)用。
IXION 193 SLM 是一款單頻全固態(tài)激光系統(tǒng),適用于光學(xué)計(jì)量、193 nm 步進(jìn)光學(xué)元件校準(zhǔn)或高功率 ArF 準(zhǔn)分子激光器的帶寬控制等應(yīng)用。
ASML 光刻機(jī) Twinscan NXT:1980Di
Syskey 緊湊式濺射系統(tǒng) Compact Sputter,靈活的基板尺寸,最大可達(dá)6英寸,基板架加熱溫度最高可達(dá)500℃,出色的薄膜均勻性,誤差小于±3%, 最多可配備5個(gè)6英寸磁控濺射源(可選配3或4個(gè)),支持射頻、直流或脈沖直流電源,最多可支持3條氣體管路,支持順序沉積和共沉積。
Syskey 緊湊式熱蒸發(fā)系統(tǒng) Compact Thermal ,靈活的基板尺寸,最大可達(dá)6英寸, 基板架加熱溫度最高可達(dá)500℃,出色的薄膜均勻性,誤差小于±3%,可選配電子束或熱舟蒸發(fā)源(最多3個(gè)),速率控制沉積,可沉積多層薄膜,選用特定目標(biāo)材料
高真空濺射系統(tǒng) HV Sputter,靈活的基板尺寸,最大可達(dá)12英寸或200×200毫米, 基板架加熱溫度最高可達(dá)800℃,出色的薄膜均勻性,誤差小于±3%
超高真空磁控濺射鍍膜機(jī) UHV Sputter,? 基板支架加熱至 800 °C ? 優(yōu)異的薄膜均勻性小于 ±3% ? 磁控濺射源(數(shù)量最多 8 個(gè)),可選強(qiáng)磁版本
Syskey 高真空熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)HV Thermal 高真空熱蒸發(fā)系統(tǒng)可提供的真空環(huán)境 用于常見(jiàn)薄膜沉積,包括金屬、有機(jī)物、鈣鈦礦和化合物。全自動(dòng)系統(tǒng)可滿足各種應(yīng)用要求,包括OLED、OPV、OPD等。