細(xì)胞靜態(tài)暴露裝置Mistber標(biāo)配了Aerogen霧化系統(tǒng)，霧化頭內(nèi)容量0.2～10ml，液體單次霧化時(shí)間可達(dá)30min，平均流速大于0.2ml/min(平均0.4ml/min)，非常適用于珍惜或價(jià)格昂貴的藥物進(jìn)行霧化發(fā)生。

主要特點(diǎn)：

■ 在細(xì)胞氣液界面的氣相層有持續(xù)沉降氣溶膠；

■ 9徑向?qū)ΨQ分布小室，可實(shí)現(xiàn)高通量高精度快速暴露；

■ 提供電加熱高精度恒溫控制，溫度恒定為37℃，溫控精度≤0.1℃；

■ 靜態(tài)暴露對(duì)細(xì)胞損傷更小，8小時(shí)持續(xù)暴露時(shí)，毒理因素外損傷小于5%-15%；

■ 內(nèi)置自動(dòng)控制高濕度控制，相對(duì)濕度≥95%；

■ 提供超微量培養(yǎng)液取樣口；

■ 暴露部分可以進(jìn)行整體高溫高壓滅菌；

■ 可擴(kuò)展QCM微天平模塊；

細(xì)胞靜態(tài)暴露系統(tǒng)核心模塊：

先進(jìn)的徑向?qū)ΨQ分布結(jié)構(gòu)模塊（Radially Symmetric Distribution）

暴露艙采用德伯科技家族式錐柱式塔形結(jié)構(gòu)（TCCT），相比較簡(jiǎn)易方形暴露艙氣溶膠塔內(nèi)沉降更穩(wěn)定，9個(gè)細(xì)胞小室徑向?qū)ΨQ分布，氣溶膠對(duì)每個(gè)小室暴露分布更均一。內(nèi)置電加熱恒溫控制模塊，溫控精度≤0.1℃；提供壓力平衡口，可以對(duì)細(xì)胞進(jìn)行氣體或氣體氣溶膠的持續(xù)暴露；提供高精度取樣口，可以進(jìn)行超微量培養(yǎng)液采樣；配置廢氣排泄口，實(shí)驗(yàn)結(jié)束后可排空暴露氣溶膠。

集成了QCM傳感器于Mistber細(xì)胞靜態(tài)暴露模塊中。它能夠以≥10 納克/s/平方厘米的分辨率測(cè)量沉積質(zhì)量。測(cè)量數(shù)據(jù)通過(guò)Mistber監(jiān)控軟件圖形方式在線展示，所有數(shù)據(jù)可以以CSV格式保存系統(tǒng)內(nèi)并可導(dǎo)出。

細(xì)胞靜態(tài)暴露裝置Mistber全自動(dòng)控制系統(tǒng)：

細(xì)胞暴露的全自動(dòng)控制主機(jī)

細(xì)胞靜態(tài)暴露系統(tǒng)Mistber搭配德伯科技專門研發(fā)的全自動(dòng)控制系統(tǒng)，具備智能化恒溫控制（溫度37℃，±0.1℃），自動(dòng)氣密性檢測(cè)，自動(dòng)霧化控制，QCM微天平數(shù)據(jù)自動(dòng)記錄展示，培養(yǎng)基自動(dòng)更換，實(shí)驗(yàn)結(jié)束后自動(dòng)排出殘余氣溶膠和自動(dòng)清洗等高度全自動(dòng)功能。

細(xì)胞暴露的全自動(dòng)控制軟件

通過(guò)軟件全自動(dòng)控制氣液界面暴露條件，并可對(duì)整體實(shí)驗(yàn)方案進(jìn)行保存并選用，主要界面包括：（1）氣密性自動(dòng)檢測(cè)；（2）培養(yǎng)基自動(dòng)加注；（3）過(guò)量培養(yǎng)基自控抽排；（4）實(shí)驗(yàn)程序編輯：定時(shí)霧化，實(shí)驗(yàn)定時(shí)，取樣定時(shí)等；（5）自動(dòng)清洗。