場發(fā)射掃描電鏡由電子槍發(fā)射電子束,經(jīng)過一組磁透鏡聚焦聚焦后,用遮蔽孔徑選擇電子束的尺寸后,通過一組控制電子束的掃描線圈,再透過物鏡聚焦,打在樣品上,在樣品的上側(cè)裝有訊號接收器,用以擇取二次電子或背向散射電子成像。
場發(fā)射掃描電鏡是電子顯微鏡的一種。該儀器具有超高分辨率,能做各種固態(tài)樣品表面形貌的二次電子像、反射電子象觀察及圖像處理。該儀器利用二次電子成像原理,在鍍膜或不鍍膜的基礎(chǔ)上,低電壓下通過在納米尺度上觀察生物樣品如組織、細(xì)胞、微生物以及生物大分子等,獲得忠實(shí)原貌的立體感極強(qiáng)的樣品表面超微形貌結(jié)構(gòu)信息。 具有高性能x射線能譜儀,能同時(shí)進(jìn)行樣品表層的微區(qū)點(diǎn)線面元素的定性、半定量及定量分析,具有形貌、化學(xué)組分綜合分析能力。

冷場發(fā)射掃描電鏡Zda的優(yōu)點(diǎn)為電子束直徑Z小,亮度Zgao,因此影像分辨率Zyou。能量散布Z小,故能改善在低電壓操作的效果。為避免針尖被外來氣體吸附,而降低場發(fā)射電流,并使發(fā)射電流不穩(wěn)定,冷場發(fā)射式電子槍必需在10^-10torr的真空度下操作,雖然如此,還是需要定時(shí)短暫加熱針尖至2500K(此過程叫做flashing),以去除所吸附的氣體原子。它的另一缺點(diǎn)是發(fā)射的總電流Z小。
熱場發(fā)射掃描電鏡是在1800K溫度下操作,避免了大部份的氣體分子吸附在針尖表面,所以免除了針尖flashing的需要。熱式能維持較佳的發(fā)射電流穩(wěn)定度,并能在較差的真空度下(10^-9torr)操作。雖然亮度與冷式相類似,但其電子能量散布卻比冷式大3~5倍,影像分辨率較差,通常較不常使用。
一、電子發(fā)射源
熱場發(fā)射掃描電鏡在總發(fā)射電流、Zda探針電流、電子束噪聲、發(fā)射電流漂移、工作真空、陰極還原、對外部影響的敏感性等方面都具有的優(yōu)勢。這些參數(shù)直接影響電鏡的性能,這也是冷場發(fā)射掃描電鏡所望塵莫及。
在陰極半徑、有效電子源半徑、發(fā)射電流密度、標(biāo)準(zhǔn)亮度等方面,冷場發(fā)射掃描電鏡略勝一籌。這幾個(gè)參數(shù)總起來說就是冷場發(fā)射陰極的面積較小、能量集中,便于將電子束聚焦于一個(gè)很小的點(diǎn),以提高分辨率。但是在現(xiàn)代的電鏡技術(shù)條件下,熱場發(fā)射掃描電鏡通過采取各種有效措施,也能夠?qū)㈦娮邮鴧R聚于一個(gè)理想的點(diǎn),達(dá)到冷場發(fā)射掃描電鏡的分辨率水平。
二、電鏡性能
1、穩(wěn)定性
冷場發(fā)射掃描電鏡燈絲會吸附電子槍內(nèi)的殘留氣體,隨著時(shí)間的增長,發(fā)射電流越來越不穩(wěn)定,需要定時(shí)(大約8小時(shí)一次)進(jìn)行加熱還原(flash,約需半小時(shí)),給使用維護(hù)帶來不便。而熱場發(fā)射電鏡無此煩惱。
熱場發(fā)射掃描電鏡的發(fā)射電流穩(wěn)定度較好,漂移小于0.5%/h(ZEISS電鏡可達(dá)到0.2%/h),而冷場發(fā)射則比這要大一個(gè)數(shù)量級。
2、Zda探針電流
熱場發(fā)射掃描電鏡探針電流一般可達(dá)10nA,而冷場發(fā)射掃描電鏡卻要低約1個(gè)數(shù)量級。
3、工作真空度
熱場發(fā)射掃描電鏡電子槍所需的工作真空度較低(≤10^-8hPa),比較容易達(dá)到,一般只用一級離子泵就可以了。而冷場發(fā)射掃描電鏡的工作真空度要高2個(gè)數(shù)量級,一般要用兩級離子泵,對真空密封等要求苛刻,嬌氣,難以維護(hù)。冷場發(fā)射電鏡樣品室的真空度要求也較高,這對于不太清潔、含水、含油、有氣體析出的樣品,抽真空就很困難。有多種型號的熱場發(fā)射電鏡具有低真空方式,而冷場電鏡難以達(dá)到。

場發(fā)射掃描電鏡,廣泛用于生物學(xué)、醫(yī)學(xué)、金屬材料、高分子材料、化工原料、地質(zhì)礦物、商品檢驗(yàn)、產(chǎn)品生產(chǎn)質(zhì)量控制、寶石鑒定、考古和文物鑒定及GA刑偵物證分析??梢杂^察和檢測非均相有機(jī)材料、無機(jī)材料及在上述微米、納米級樣品的表面特征。
場發(fā)射掃描電鏡的Zda特點(diǎn)是具備超高分辨掃描圖像觀察能力,尤其是采用Zxin數(shù)字化圖像處理技術(shù),提供高倍數(shù)、高分辨掃描圖像,并能即時(shí)打印或存盤輸出,是納米材料粒徑測試和形貌觀察Z有效儀器。也是研究材料結(jié)構(gòu)與性能關(guān)系所不可缺少的重要工具。
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