最近小伙伴對(duì)于濺射儀使用和技術(shù)參數(shù)問的問題比較多，今天總結(jié)一下濺射儀的一些常見的技術(shù)問題：

1、膜厚檢測(cè)儀原理：膜厚監(jiān)測(cè)儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測(cè)量技術(shù)加上先進(jìn)的數(shù)學(xué)算法，進(jìn)行膜厚的在線鍍膜速率和實(shí)時(shí)厚度計(jì)算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過程中，對(duì)膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。

2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳  但是 鎳是導(dǎo)磁金屬 所以 需要靶材盡量薄 0.5mm-1mm  太厚磁場(chǎng)無法穿透  濺射速率很低。

3、直流濺射鍍膜調(diào)節(jié)：1 靶材需要良好的導(dǎo)電性, 如果具備這個(gè)條件  可以鍍    2 遇到容易氧化的金屬 需要配備分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氬氣維持真空到1Pa左右鍍膜的金屬接近本色。

鄭科探小型濺射儀KT-Z1650PVD

以上是小伙伴近期問的比較多的問題，如果還有什么問題歡迎咨詢。

小型濺射儀儀問儀答

最近小伙伴對(duì)于濺射儀使用和技術(shù)參數(shù)問的問題比較多，今天總結(jié)一下濺射儀的一些常見的技術(shù)問題：

1、膜厚檢測(cè)儀原理：膜厚監(jiān)測(cè)儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測(cè)量技術(shù)加上先進(jìn)的數(shù)學(xué)算法，進(jìn)行膜厚的在線鍍膜速率和實(shí)時(shí)厚度計(jì)算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過程中，對(duì)膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。

2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳  但是 鎳是導(dǎo)磁金屬 所以 需要靶材盡量薄 0.5mm-1mm 太厚磁場(chǎng)無法穿透  濺射速率很低。

3、直流濺射鍍膜調(diào)節(jié)：1 靶材需要良好的導(dǎo)電性, 如果具備這個(gè)條件  可以鍍    2 遇到容易氧化的金屬 需要配備分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氬氣維持真空到1Pa左右鍍膜的金屬接近本色。

鄭科探小型濺射儀KT-Z1650PVD

以上是小伙伴近期問的比較多的問題，如果還有什么問題歡迎咨詢。

               鄭科探小型濺射儀功能優(yōu)勢(shì)

1、樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，多樣品同時(shí)鍍膜時(shí)，鍍膜厚度比較均勻。

2、預(yù)濺射擋板功能，剛開始鍍膜的時(shí)候腔室里會(huì)有些雜質(zhì)，擋板可以保護(hù)樣品，提高薄膜質(zhì)量

3、帶有水冷系統(tǒng)，可以長時(shí)間濺射鍍膜，厚度可達(dá)1微米以上。

4、直流磁控濺射，提高附著力，濺射速率快，比離子濺射快上一個(gè)量級(jí)。針對(duì)某些金屬最快能達(dá)到1-2納米每秒，

5、不但可以電鏡制樣，還可以制作金屬電極。

6、可擴(kuò)展膜厚監(jiān)測(cè)，監(jiān)測(cè)薄膜厚度。

濺射儀使用需注

1 靶材需要良好的導(dǎo)電性, 如果具備這個(gè)條件  可以鍍    

2 遇到容易氧化的金屬 需要配備分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氬氣維持真空到1Pa左右鍍膜的金屬接近本色