- 2025-01-21 09:33:52IBE刻蝕
- IBE刻蝕即離子束刻蝕，是利用高能離子束對材料進行精確刻蝕的技術(shù)。其基本原理是通過加速離子束撞擊材料表面，使材料原子被濺射出來，達(dá)到刻蝕目的。IBE刻蝕具有分辨率高、刻蝕精度高、可加工復(fù)雜結(jié)構(gòu)等優(yōu)勢，廣泛應(yīng)用于微納加工、半導(dǎo)體制造、光學(xué)元件制造等領(lǐng)域。該技術(shù)能夠制備出高精度的微納結(jié)構(gòu)，是現(xiàn)代微納技術(shù)的重要組成部分。
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